蒸镀材料 溅射靶材是什么？
编辑：自学文库
时间：2024年03月09日
蒸镀材料指的是通过蒸发源加热，使其蒸发形成气体态，然后沉积在基底上形成薄膜的材料。
蒸镀材料的选择主要取决于所需的薄膜的特性和应用。
常见的蒸镀材料包括金、银、铝、铬、钛等金属以及二氧化硅、氧化锌等陶瓷材料。
溅射靶材是一种可以通过物理气相沉积（PVD）的方式制备薄膜的材料。
溅射靶材是指放置在溅射设备中，通过离子轰击或电子加热等方式使其表面原子变为离子并喷射到基底上形成薄膜的材料。
溅射靶材的选择也取决于所需薄膜的特性和应用。
常见的溅射靶材包括金、银、铜、铝、铬、钛等金属靶材以及二氧化硅、氧化锌等陶瓷靶材。
蒸镀材料和溅射靶材在薄膜技术中扮演着重要角色。
它们的选择直接影响到最终薄膜的特性和性能。
根据不同的需求，可以选择不同的蒸镀材料和溅射靶材来满足特定的应用要求。