溅射靶材是什么东西?

编辑:自学文库 时间:2024年03月09日
溅射靶材是用于物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术中的一种材料。
  PVD技术是通过将固态材料加热至一个较高的温度,使其转变为气态,再在目标材料表面凝聚成薄膜的一种工艺。
  溅射靶材通常由金属、合金或化合物制成,根据需要的薄膜成分来选择不同的材料。
  在PVD过程中,将溅射靶材置于真空腔室中,加热并加上负电压,通过离子轰击或惰性气体溅射的方式,将靶材表面的原子或分子弹出,并沉积在待涂物体表面,形成薄膜。
  溅射靶材在PVD技术中起着至关重要的作用,它直接影响沉积薄膜的结构和性能,因此选择合适的溅射靶材对于薄膜沉积过程非常重要。