超高纯金属溅射靶材是啥？

超高纯金属溅射靶材是用于物理蒸发沉积或磁控溅射等工艺的材料。
  
它由纯净度非常高的金属制成，通常用于金属薄膜的制备。
  
这种靶材经过钣金、真空炉烧结和高温处理等工艺，确保了材料的纯度和稳定性。
  
使用超高纯金属溅射靶材可以得到均匀、纯净的金属薄膜，在光学、电子学、表面涂层等领域具有广泛应用。
  
它的制备过程需要精确的控制和纯净的材料，以确保所制备的薄膜具有良好的品质和性能。