光刻机的光源通常是紫外线光源。 光刻机通过紫外线照射光致反应材料，将图案投射到硅片表面，从而实现微米级甚至纳米级的芯片制造。 紫外线光源通常采用激光或者弧光灯作为发光装置，其能量强、波长短、频率高，能够提供足够的光强度和精确的波长，确保光刻胶的敏感度和图形的清晰度。