光刻机的光源通常是紫外线（UV）光。 光刻机是半导体制造中的关键设备，用于将电路芯片的图案图案转移到硅片上。 紫外线光源具有短波长和高能量，能够提供足够强度和分辨率来实现微米级别的图案化。 使用紫外线光源进行光刻过程时，光被光刻胶吸收，然后通过掩膜模具形成所需的图案。 因此，光刻机的光源是非常重要的，它直接决定了图案的清晰度和生产效率。