光刻机是在20世纪60年代初期被发明的。 它是一种用于半导体制造的重要设备，用于在硅片上制作芯片的图形。 光刻机通过使用光刻技术，将光线聚焦在光刻胶上，并使用掩膜来控制光线的传播方式，从而在硅片上形成微小的图案。 随着芯片设计的复杂性和集成度的不断提高，光刻机也得到了迅速发展和改进。 现代光刻机已经可以实现纳米级的分辨率，为微电子行业的发展做出巨大贡献。