光刻机是什么时候出现的？
编辑：自学文库
时间：2024年03月09日
光刻技术的出现可以追溯到20世纪60年代末和70年代初。
当时，随着集成电路(IC)的发展，需要制造出更小、更精密的芯片，传统的印刷技术已经无法满足需求。
1964年，美国贝尔实验室的罗伯特·诺伊斯(Robert Noyce)和吉尔伯特·奥尔茨(Gilbert Hyatt)首次提出了使用光刻技术来制造集成电路的想法。
在光刻技术中，光源通过透镜将图案投射到光刻胶层上，然后通过化学或物理方法将图案转移到芯片表面。
1967年，卡尔·弗爵尔卡尔传感器公司(Carl Zeiss Sensor, 其后成为ASM Lithography)推出了第一台商业化的光刻机，被称为“MIP-101”(Mask Image Projection)。
这台光刻机使用了较为简单的光刻工艺，并且只能制造较大尺寸的芯片。
随着时间的推移，光刻机的技术得到了快速发展与改进。
1970年代末，高分辨率率步进式光刻机的问世使得芯片的制造达到了微米级别。
1980年代，光刻机的分辨率进一步提高至亚微米级，并且由于光刻胶的改进，使得芯片的成像精度更高。
至今，光刻机已经成为半导体制造工艺中不可或缺的重要设备，技术水平也不断迭代更新，以满足新一代芯片的制造要求。
这一技术的出现，推动了集成电路技术的快速发展和智能设备的日新月异。