溅射靶材是什么意思？
编辑：自学文库
时间：2024年03月09日
薄膜沉积是一种将材料沉积到基材表面形成薄膜的过程。
溅射靶材常用于物理气相沉积（PVD）技术中的溅射过程。
在溅射过程中，靶材置于真空腔室中，通过电子束或离子束轰击靶材表面，使其表面原子或分子被释放出来并沉积到基材上，形成薄膜。
溅射靶材通常由金属或化合物制成，例如铝、铜、铁、锡等。
这些靶材在溅射过程中经过离子束的轰击，靶材表面原子或分子被剥离出来，并在真空环境中传输到基材表面，形成均匀的薄膜。
溅射技术在半导体、光学薄膜、镀膜和太阳能电池等领域广泛应用。
通过选择不同的溅射靶材和调节工艺参数，可以获得不同性质的薄膜，如导电性、光学性能、机械性能等。
溅射靶材的品质和纯度也会对薄膜的质量和性能产生影响，因此选择适当的溅射靶材非常重要。