电子束蒸发镀膜机的p参数有什么影响？
编辑：自学文库
时间：2024年03月09日
p参数代表腔体内的气压，对蒸发源和基板表面的气体分子形成的路径和碰撞有影响。
首先，调整p参数可以控制气体的压力，从而影响腔体内的气体密度。
高压下，气体分子的碰撞频率增加，镀膜过程中的粒子沉积速率更快，可以得到更高的沉积速度。
但过高的压力可能会导致基板表面形成残留气体，影响镀膜质量。
其次，p参数也影响沉积层的致密性和结构。
在低压下，气体分子路径较长，沉积的粒子具有较高的动能，能够更好地填充基板表面的空隙，从而形成致密的沉积层。
而高压下，气体分子路径较短，粒子沉积能量较低，容易形成多孔结构。
此外，p参数还影响沉积层的成分纯度。
在低压下，气体分子的路径较长，有机杂质分子可以更容易与基板表面上的气体分子反应，从而污染沉积层。
而高压下，气体分子路径较短，有机杂质分子的反应路径变长，减少了污染的可能性。
总之，适当调整电子束蒸发镀膜机的p参数可以优化镀膜过程中的气体分子路径和碰撞，从而影响到沉积层的质量、致密性和成分纯度。